小型离子溅射仪

原理：
依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自
动控制电路控制真 空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体。根据电场中气体电离
te 性，采用da 容量样品溅射真 空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层均 匀 纯 净。
参数：
 主机规格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）
 靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）
 靶材：Au（标配）
 样品室：硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm（D×H）
 靶材尺寸：Ф 50mm
 真空指示表： zui 高 真 空度：≤ 4X10-2 mbar
 离子电流表： zui 大 电流：50mA
 定时器： zui 长时间：1-360s
 微型真 空气阀：可连接φ 3mm 软管
 可通入气体： 多种
 zui 高电压： -2800 DCV
 机械泵：标准配置 2L/S（国产 VRD-8）
用途：
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
特点：

2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。
3、SETPLASMA 手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不 必 要的损 伤。
4、真 空保护可避免真 空过低造成设备短路。
5、同时可以通过换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到geng 细颗粒的涂层。
6、通过通入不同的惰性气体以达到纯净的涂层。
7、高压输出涂层牢固，适用于非导体材料实验电极制作。