磁控溅射仪型号:ZX/SD-900M库号：M413671 参数： 主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H） 靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H） 靶材：Au（标配） 样品室：玻璃腔体160mm×120mm（D×H） 靶材尺寸：Ф50mm 真空度：≤4X10-2mbar 电流：≤100mA 定时器：数码JI时0-999S 镀膜面积
磁控溅射仪型号:ZX/SD-900M库号：M413671
参数：
主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（标配）
样品室：玻璃腔体160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф50mm
真空度：≤4X10-2mbar
电流：≤100mA
定时器：数码JI时0-999S
镀膜面积：50mm
微型真空气阀：可连接φ3mm软管
可通入气体：多种
电压：-1600DCV
机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8）
冷却方式：冷水机（可根据实验具体要求自备）
速率：0--60nm/min
用途：
1、适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）观察前对样品的喷金、喷铂。
2、非导体材料实验电极制作（喷金、喷铂。喷银等）
3、其他可以满足条件的镀膜实验。
特点：
1、成膜速率高。
2、基片温度低，可以对温度敏感的材料进行镀膜。
3、可实现大面积镀膜。
4、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小，颗粒大小约4-20nm。
5、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的SUN伤。
6、真空保护可避免真空过低造成设备短路。
7、同时可以通过换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到细颗粒的涂层。
8、通过通入不同的惰性气体以达到纯净的涂层。
