离子磁控靶 溅射蒸碳仪型号WZX/SD-900C库号M413872

离子磁控靶 溅射蒸碳仪型号WZX/SD-900C库号M413872  

技术参数  

参数类别详细规格  

整机结构1、采用主机+副机分体式设计，  

主机尺寸300mm×360mm×380mm、  

副机300mm×360mm×140mm（W×D×H），  

2、总重40Kg，副机承载热蒸发模块，主机集成溅射与真空系统，布局优化且占用空间0.22㎡，较同类复合设备体积缩减40%，适配实验室紧凑空间，一体化复合结构无通用替代方案。  

样品室与双功能系统1、样品室尺寸160mm×120mm（D×H），采用高透光硼硅酸盐玻璃，可实时观察双功能镀膜过程，玻璃经防溅射涂层处理，避免靶材/碳粉附着影响视野。  

2、溅射面积Φ50mm（匹配样品），蒸碳面积140mm（适配大面积样品），双功能工位较单一功能设备兼容性提升一倍。  

靶材与蒸发材料1、标配Φ50mm×0.1mm高纯度铂（Pt）靶材（纯度99.99%），与溅射靶一体化设计，溅射均匀性偏差≤±3%；蒸发材料采用碳纤维绳，耐高温、蒸发速率，相较于石墨蒸发源，碳膜纯度、附着力，且与热蒸发模块适配，通用材料无法达到同等蒸碳效果。  

溅射与蒸碳控制参数1、溅射参数：电压-1600DCV，  

电流50mA，  

电流度±0.1mA，  

标准溅射速率40nm/分钟，  

0-999s定SHI器秒JI调控；  

2、蒸碳参数：电压28V，  

电流100A，  

0-1sSHUN时加热控制，  

可精ZHUN制备10-50nmCHAO薄碳膜。  

3、双功能参数独立存储、联动控制，控制系统可避免参数干扰，通用设备无法实现双功能协同。  

真空与气路系统4、皮拉尼真空计，测量范围1×10⁻³-1×10³mbar，针对双功能场景校准，显示±0.01mbar，可维持≤4×10⁻²mbar工作真空度；微型真空气阀可连接φ3mm软管，可连通惰性气体提高成膜质量，密封性经测试（漏率≤1×10⁻⁵mbar·L/s），保障双功能真空环境性。  

动力与冷却系统1、标配2L/S机械泵，与双功能系统适配性JIA，运行噪音≤55dB，从大气抽至工作真空度需3-5分钟；  

2、冷却系统标配风冷，效率较通用风冷提升25%。注：若单次溅射CHAO3分钟或制备厚膜，建议加装原厂电冷装置，控温保护样品与设备。  

靶体配置1、标配二极直流溅射靶，满足常规喷金需求；  

2、选配磁控靶（适配后溅射电流可达100mA），磁控靶采用磁路设计，溅射速率较二极靶提升30%。